• SU-8光刻膠模具會用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的過程中。PDMS芯片加工通常采用軟光刻技術(shù)來制作。為了執(zhí)行PDMS軟光刻技術(shù)的加工過程，通常需要用到模板，最常...2025-09-17 10:05:16
• 光刻加工光刻技術(shù)圖形轉(zhuǎn)移工藝光刻工藝（Photoetching or Lithography）是一種圖像復(fù)印技術(shù)，利用光刻膠感光后特性發(fā)生改變的原理，將光刻掩...2025-09-17 10:05:16
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡介新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8?膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問題，...2024-03-28 10:07:48
• 光刻膠勻膠過程氣泡產(chǎn)生的原因分析很多實驗者在使用勻膠機(jī)進(jìn)行光刻膠勻膠過程中有氣泡產(chǎn)生，嚴(yán)重影響了實驗效果，那么勻膠過程中為什么會產(chǎn)品氣泡呢？有哪些方法可以減少氣泡的產(chǎn)生？如果氣泡產(chǎn)生了有什么好的辦法消除氣泡...2025-07-28 10:46:08
• 為什么微流控光刻工藝要用黃光?光刻是微流控芯片制造中的重要工藝之一。簡單來說，它是通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復(fù)制流體圖案的過程。基板將涂覆硅二氧化層絕緣層和光刻膠。光刻膠在被紫...2025-06-16 09:43:59
• 光刻工藝中的顯影技術(shù)一、光刻工藝概述光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù)，通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化，再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程，將設(shè)計在掩膜上的圖形...2025-06-09 09:41:00
• 光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀如果說最終制造出來的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。光刻膠（photoresist），在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光...2025-06-04 09:07:49
• 光刻掩膜版的儲存條件光刻掩膜版（Photomask）是光刻工藝中至關(guān)重要的工具，它直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。雖然直接關(guān)于光刻掩膜版的儲存條件的信息較少，但我們可以...2025-04-28 10:01:32
• 鉻板掩膜和光刻掩膜的區(qū)別掩膜版作為微納加工技術(shù)中光刻工藝所使用的圖形母版，在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著信息技術(shù)和智能制造的快速發(fā)展，特別是智能手機(jī)、平板電腦...2025-02-19 09:29:54
• 正性光刻對掩膜版有哪些要求正性光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個方面：基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因為它具有較低的...2025-02-17 09:46:14